耗资3.5亿美元！阿斯麦展出新型“High NA EUV”设备

xinwen.mobi · 发表于 2024-2-12 07:52:18

荷兰公司阿斯麦（ASML）是全球唯一能够生产极紫外光（EUV）光刻机的供应商，这些光刻机是半导体制造过程中的关键设备。耗资3.5亿美元的“High NA EUV”设备是该公司推出的新型光刻机，旨在进一步提高芯片的生产精度和效率。

“High NA EUV”代表了高数值孔径极紫外光技术。数值孔径（NA）是衡量光学系统能够收集光线能力的参数，数值越高，系统的分辨率越高，能够打印更小的电路图案。这种新型光刻机的设计目标是实现更小尺寸的晶体管制造，这对于提升芯片性能和能效至关重要。

该设备的研发投入巨大，因为它不仅涉及光学系统的改进，还包括精密机械、软件算法以及与光刻过程相关的材料科学的创新。此外，为了适应更高NA的光学系统，还需要开发新的光掩模和光刻胶等配套材料。

阿斯麦展示的新型High NA EUV光刻机预计将在2025年左右开始出货给芯片制造商。这标志着半导体制造领域的一个重要里程碑，因为它将推动半导体行业进入一个新的发展阶段，使得更先进的制程技术成为可能。随着全球对于高性能计算和智能设备的需求不断增长，这样的技术创新对于满足市场对更高密度和更低功耗芯片的需求至关重要。

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